据外媒报道,11月11日,印度国防研究与发展组织(DRDO)下属的固体物理实验室已成功开发出本土一种工艺,可以生长和制造直径为4英寸的碳化硅(SiC)晶片。此外,他们还已制造出功率高达150W的氮化镓(GaN)HEMT以及功率为40W的单片微波集成电路(MMIC),这些器件能够在...  [详内文]
印度开发出4英寸碳化硅晶圆工艺 |
作者 huang, Mia|发布日期 2024 年 11 月 13 日 15:56 | 分类 功率 |