最新文章

镓仁半导体氧化镓厚膜外延材料完成器件级验证

作者 |发布日期 2026 年 07 月 27 日 15:17 | 分类 氧化镓
近期,杭州镓仁半导体自研自产的氧化镓(β-Ga₂O₃)同质厚膜外延片,在西安电子科技大学实验室完成肖特基势垒二极管(SBD)无终端结构器件流片制备,各项电学性能参数顺利通过可靠性测试验证,标志其氧化镓外延材料达到功率器件量产可用水准。 氧化镓作为第四代超宽禁带半导体材料,具备超宽...  [详内文]

布局GaN板级电源技术,宏微科技子公司与合肥工业大学达成合作

作者 |发布日期 2026 年 07 月 27 日 15:14 | 分类 企业 , 氮化镓GaN
近日,据宏微科技官网发布消息,7月17日江苏宏微科技股份有限公司子公司#上海宏微爱赛半导体有限公司,与合肥工业大学正式签署校企合作协议,双方聚焦AI数据中心AIDC板级供电痛点,联合攻关基于GaN HEMT氮化镓高电子迁移率晶体管的三级电源核心技术。 随着AI服务器单机功耗、机柜...  [详内文]

20亿美元!传两家大厂签订碳化硅长约

作者 |发布日期 2026 年 07 月 27 日 15:11 | 分类 碳化硅SiC
据《经济日报》7月27日报道,市场消息指出,电源巨头厂商台达电子与全球功率半导体龙头德国英飞凌(Infineon)已签署总金额高达20亿美元(约合新台币650亿元)的碳化硅(SiC)长期供货协议(LTA)。这是台达电子近年来签署的规模最大的材料长期供货协议。 针对该项市场传闻,台...  [详内文]

国产SiC技术出海!助力韩厂切入高压功率赛道

作者 |发布日期 2026 年 07 月 24 日 14:07 | 分类 功率 , 碳化硅SiC
7月23日,纳微半导体与韩国MagnaChip(美格纳半导体)联合官宣达成碳化硅技术战略授权合作,纳微向后者授予第四代、第五代GeneSiC™碳化硅完整专利与架构使用权,帮助MagnaChip正式切入高压、超高压碳化硅功率器件赛道。 根据双方协议条款,本次授权核心为纳微自研沟槽辅...  [详内文]

最高8.55亿元,这家厂商宣布拿下磷化铟衬底长期供货订单

作者 |发布日期 2026 年 07 月 24 日 14:04 | 分类 企业 , 磷化铟
7月23日晚间,云南锗业发布重大经营合同公告,公司控股子公司云南鑫耀半导体与下游客户签署磷化铟晶片(衬底)供货协议,合同含税总金额区间为5.7亿元至8.55亿元,上限金额达8.55亿元,履约周期覆盖2026年8月1日至2027年12月31日,产品将按计划分批交付。 图片来源:云...  [详内文]

化合物半导体设备厂商,完成数千万元战略融资

作者 |发布日期 2026 年 07 月 24 日 13:59 | 分类 企业 , 化合物半导体
近日,上海邦芯半导体科技有限公司完成一轮数千万元战略融资,本轮投资方为初芯控股集团,资金将重点用于第三代半导体刻蚀、薄膜沉积设备迭代研发与产能扩充,加速国产前道工艺设备客户端批量导入。 邦芯半导体2020年成立,为国家级专精特新“小巨人”企业,核心聚焦硅基特种工艺设备与化合物半导...  [详内文]

英飞凌发布抗辐射栅极驱动芯片,助力GaN“上天”

作者 |发布日期 2026 年 07 月 23 日 17:27 | 分类 企业 , 氮化镓GaN
英飞凌近日宣布推出RIC70115抗辐射栅极驱动芯片。该产品专为氮化镓功率半导体控制设计,同时兼容硅基器件,主要面向卫星及其他高可靠性航天应用场景。 太空中的辐射环境对半导体器件构成双重威胁:累积性辐射损伤会逐步劣化器件性能,而高能粒子引发的单粒子效应则可能导致电路瞬间误动作。 ...  [详内文]

瑞能半导体推出WMSC系列碳化硅功率模块

作者 |发布日期 2026 年 07 月 23 日 17:24 | 分类 碳化硅SiC
7月20日,瑞能半导体(WeEn Semiconductors)官方发布消息,正式推出WMSC全系列碳化硅功率模块,产品面向固态变压器(SST)、新能源汽车超充、智能电网与可再生能源等高功率转换场景。本次新品包含20余款标准化器件,目前已开放样品申领与批量供货通道。 图片来源:...  [详内文]

磷化铟、金刚石、碳化硅耗材同步扩产!

作者 |发布日期 2026 年 07 月 23 日 17:20 | 分类 企业 , 化合物半导体 , 碳化硅SiC
AI算力基础设施持续扩容,带动化合物半导体上游材料、关键耗材赛道投资热度持续上行。 近期国内三个差异化化合物半导体项目相继迎来落地、建设关键节点: 上海九东半导体磷化铟衬底制造项目签约落户云南曲靖 湖北碳六科技CVD金刚石半导体材料生产基地落地青海西宁 安徽四象半导体合肥基地推...  [详内文]

山东大学与远山半导体联手突破1800V增强型GaN功率器件,破解中高压应用关键瓶颈

作者 |发布日期 2026 年 07 月 22 日 15:15 | 分类 氮化镓GaN
近期,山东大学集成电路学院刘超教授团队联合远山半导体在高压氮化镓(GaN)功率晶体管领域取得重要进展,基于极化超结(PSJ)技术成功研制出1800V耐压、电流超过20A的增强型(E-mode)GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)。相关研究成果以“1800V/20A E-mode ...  [详内文]