碳化硅（SiC）作为一种高性能材料，在大功率器件、高温器件和发光二极管等领域有着广泛的应用。 其中，基于等离子体的干法蚀刻在SiC的图案化及电子器件制造中起到了关键作用，现分述如下: ·干法蚀刻概述 ·碳化硅反应离子蚀刻 ·碳化硅反应离子蚀刻案例 ·ICP的应用与优化 01、干法...  [详内文]