7月9日，光伏设备大厂捷佳伟创宣布，继4月份半导体碳化硅整线湿法设备订单并完成合同签署后，近日公司子公司创微微电子（常州）有限公司（以下简称：创微微电子）再次斩获另一家半导体头部企业整线湿法设备订单，目前已完成合同签订工作。
据介绍，此次签订的合同标的位于该客户新产业园的碳化硅产线，交付的机台数量多达18台（套），为之前4月签订的合同交付量的2倍，可覆盖碳化硅器件刻蚀清洗全段工艺。
其中包含创微微电子全新研发的Swing-type Dry干燥设备，该设备可同时兼容6/8吋产线，极大地提升了设备开发效率。同时也再次巩固了创微微电子6/8吋槽式及单片全自动湿法刻蚀清洗设备替代进口设备的能力。
source：捷佳伟创
据了解，官网资料显示，创微微电子成立于2020年9月，专注于集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产、销售和服务。其主要产品有4到12英寸批式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备，应用范围涵盖了Micro LED、第三代化合物、微机电、后端封装及集成电路IDM和代工大厂所需的湿法工艺需求，满足近90%湿法工艺步骤，包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、氮化硅刻蚀、炉管前清洗等。
据悉，2022年7月，由创微微电子研发生产的8英寸Cassette-less清洗设备交付至积塔半导体并开始验证阶段，运行情况良好。与此同时，创微微电子成功中标积塔半导体后续10余台清洗设备订单，制程涵盖8英寸至12英寸。
目前，创微微电子已推出4-8英寸全自动Cassette type清洗设备、8英寸全自动Cassette-less清洗设备及4-8腔Single tool清洗设备，成功导入青岛芯恩、成都德州仪器、积塔半导体等国内头部芯片企业并获得重复性订单。
值得一提的是，去年12月，苏州市、无锡市、常州市工信局共同发布2023年苏锡常首台（套）重大装备拟认定公示名单，创微微电子的单晶圆刻蚀清洗设备成功通过公示认定，实现首台套零突破。（捷佳伟创、集邦化合物半导体整理）
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