3月20日,杭州镓仁半导体有限公司(下文简称“镓仁半导体”)宣布,公司联合浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院、硅及先进半导体材料全国重点实验室,采用自主开创的铸造法于今年2月成功制备了高质量6英寸非故意掺杂及导电型氧化镓(β-Ga2O3)单晶,并加工获得了6英寸氧化镓衬底片...  [详内文]
国内首个6英寸氧化镓衬底产业化公司诞生 |
作者 huang, Mia|发布日期 2024 年 03 月 21 日 11:21 | 分类 企业 |