1月9日，据中国电科48所官微消息，中国电科48所立式氧化炉近日完成批量交付。
source：中国电科48所
据介绍，立式氧化炉是6-8英寸碳化硅功率器件及硅基集成电路制造关键工艺设备，主要用于高温氧化及退火工艺。
据悉，氧化退火对于碳化硅功率器件制造至关重要。首先，氧化退火处理能够优化碳化硅表面的氧化层结构，形成均匀、高质量的SiO?栅氧化层。这有助于提升器件的击穿电压、降低漏电流和噪声，从而提高器件的性能和可靠性。
其次，通过氧化退火，可以填补晶格缺陷，降低残余应力，提高氧化物和晶体的结合质量，改善电学性能?，这对于提高碳化硅功率器件的整体性能和稳定性具有重要意义。
此外，在高温下，碳化硅晶体中的原子会发生移动，减少晶格缺陷，从而提高其热稳定性和热传导性能。氧化退火还能减少氧化物含量，进一步增强其耐热性能。
目前，国内已有部分设备厂商涉足碳化硅氧化炉细分市场，除中国电科48所外，还有北方华创、拉普拉斯等企业。（集邦化合物半导体Zac整理）
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