赛微电子:氮化镓芯片处于工艺开发阶段

作者 | 发布日期 2025 年 03 月 07 日 17:28 | 分类 氮化镓GaN

近期,赛微电子在投资者互动平台透露了相关产线进展情况,其表示:

深圳产线的相关工作正在开展中;MEMS先进封装测试业务目前仍处于建设阶段,在试验线层面,截至目前已在公司MEMS基地(北京FAB3)建成并运营,与客户需求对接、工艺技术开发、部分产品试制等相关活动已在公司现有条件下展开,工艺技术团队搭建持续进行,与项目相关的设备采购已大规模实施,该项目实施主体赛积国际目前已在公司控股子公司赛莱克斯北京MEMS基地内租赁部分空间并建成一条小规模试验线;在商业线层面,基于产线选址、资源要素、发展战略规划等方面的考量,公司仍在谨慎商讨决策具体建设方案,有可能是在现有厂房中推进建设;基于MEMS工艺的氮化镓芯片仍处于工艺开发阶段,还需要时间;公司已持续开发、量产各自不同型号类别的滤波器;公司与武汉敏声保持长期、稳定的战略合作关系。(集邦化合物半导体整理)

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