又一氧化镓企业获融资!

作者 | 发布日期 2023 年 08 月 01 日 17:15 | 分类 氮化镓GaN

近日,北京镓和半导体有限公司(以下简称“镓和半导体”)正式宣布完成六千五百万元A轮融资,由凯石资本领投,海通证券、正为资本、盈添投资跟投。

镓和半导体成立于2021年,是一家超宽禁带半导体材料氧化镓衬底及外延制造商,主营氧化镓单晶衬底及外延晶片、单晶及外延生长设备、高灵敏日盲紫外探测器件、大功率电力电子器件等氧化镓相关产品。

图片来源:拍信网正版图库

镓和半导体自成立以来,共申请国内发明专利18项,拥有四项核心技术:氧化镓单晶生长技术、氧化镓衬底加工技术、氧化镓薄膜外延技术、氧化镓器件技术。

氧化镓是一种超宽禁带材料,拥有超宽带隙(4.2-4.9eV)、超高临界击穿场强(8MV/cm)、超强透明导电性等优异物理性能,它的各项性能指标较硅、碳化硅以及氮化镓有着显著的优势。

目前,各国半导体企业都在争相布局氧化镓,但均在产业化前夜。氧化镓或许可以成为我国突破“卡脖子”的机遇。(文:集邦化合物半导体 Doris整理)

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