3月12日，中微公司宣布其等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台，涉及CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。
中微公司介绍，等离子体刻蚀机，是光刻机之外，最关键的、也是市场最大的微观加工设备。由于微观器件越做越小和光刻机的波长限制，也由于微观器件从二维到三维发展，刻蚀机是半导体设备过去十年增长最快的市场。
中微公司不断拓展等离子体刻蚀设备产品线，以满足先进的芯片器件制造日益严苛的技术需求。中微公司的等离子体刻蚀设备不断扩大市场占有率，其中，CCP设备在线累计装机量近四年年均增长大于37%，已突破4000个反应台；ICP设备在线累计装机量近四年年均增长大于100%，已突破1000个反应台。
截至2025年2月底，公司累计已有超过5400个反应台在国内外130多条生产线，全面实现了量产和大规模重复性销售。中微公司表示，这一重要里程碑标志着公司在等离子体刻蚀设备领域持续得到客户与市场的广泛认可，并彰显了公司在等离子体刻蚀领域已进入国际前列。（集邦化合物半导体整理）
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