9月2日，北京必创科技股份有限公司（以下简称：必创科技）发布公告称，其拟通过两步取得北京创世威纳科技有限公司（以下简称：创世威纳）控制权。
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第一步，必创科技拟于2024年内通过增资取得创世威纳约10%股权，该次交易完成后创世威纳将成为必创科技参股公司；第二步，必创科技拟在创世威纳完成2024年业绩承诺的基础上，于2025年内通过发行股份及支付现金方式进一步收购创世威纳约55%股权，该次交易完成后创世威纳将成为必创科技控股子公司。
公告显示，创世威纳拥有15年微米纳米镀膜与刻蚀经验，其推出的系列镀膜机、刻蚀机及其他真空设备可以满足市面上多种膜系、刻蚀形貌的工艺要求。创世威纳根据科研和工业的不同需求，提供标准化程度高、集成度高、设计轻巧、满足多样化研究的科研设备，以及生产效率高、稳定性高、材料利用率高的生产型设备，已经在半导体、微电子、光电器件、新材料、航空航天、通讯、核工业等行业获得了成熟应用。
官网资料显示，必创科技成立于2005年，总部位于北京，2017年在创业板上市，是一家智能传感器和光电仪器产品、系统解决方案和应用服务提供商。产品方面，必创科技自主研发生产的无线传感器网络系列产品、金属化光纤、MEMS压力传感器芯片、通用光栅光谱仪、荧光光谱仪、拉曼光谱仪、精密位移控制单元及OLED/LCD显示器件光色评价系统等多项产品的技术性能指标均达到国内较高水平，部分指标达到国际较高水平。
关于本次收购，必创科技表示，本次股权投资事项有助于丰富其在科研及先进制造领域的产品和服务，并加强在半导体、光电器件、航空航天等领域的布局。其在新材料与特种材料表征领域已经积累了丰富的经验和良好的客户群体，并逐步布局针对第三代半导体、Micro LED发光器件、钙钛矿光伏材料等领域的量测和检测，与创世威纳整合后将进一步渗透到材料制备端，有利于其加快和完善产业布局和资源整合，从而把握设备国产化、核心元器件国产化生产的机会。
必创科技8月28日晚间发布的2024年半年度报告显示，半导体光电量测及检测业务是必创科技在原有光电效应、荧光及拉曼产品线的基础上，针对新型材料机理与器件表征研究、晶圆检测、光刻工艺、薄膜沉积的量测和检测需求，进行了产品和应用的拓展。
在第三代半导体SiC、GaN、AlN及Micro LED，新型光伏材料及钙钛矿等领域，原有的Si晶圆量测和检测手段缺乏针对组分、内应力、载流子浓度、发光的均匀性等特有指标的晶圆级无损、快速检测的方法，必创科技通过宽场荧光成像、共焦光致发光光谱、共焦拉曼光谱、光谱响应度等新技术进行补充和搭配。（集邦化合物半导体整理）
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