据青松资本公众号消息，近日，青岛四方思锐智能技术有限公司（下文简称“思锐智能”）完成了最新一轮融资。合投机构包括中金资本、中车四方所、中车资本、石溪资本、千帆资本等知名机构。
据介绍，思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案，公司产品有原子层沉积镀膜(ALD)设备、薄膜电发光显示器(LDI)设备以及离子注入（IMP）设备三大产品系列，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。
在融资端来看，天眼查显示，目前思锐智能已完成5轮融资。其中，披露的A轮和B轮都达到了数亿元。
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在产品端来看，针对SiC，思锐智能推出了两款离子注入设备——SRII-200 SiC中能大束流离子注入机和SRII-4.5M SiC高能离子注入机，广泛应用于SiC材料研究和半导体器件制备领域。
由于GaN领域涉及到非常多ALD相关的应用，而思锐智能的Transform系列量产型ALD沉积镀膜设备能够有效增强GaN器件的性能，该系列设备于2023年7月获得了GaN器件大厂英诺赛科的订单。思锐智能Transform系列量产型ALD沉积镀膜设备将被用于英诺赛科GaN晶圆制造前道工艺，用以支持其8英寸硅基GaN晶圆产线的扩充。
值得一提的是，思锐智能的Transform系列已进入欧洲、北美、日本和中国大陆及台湾地区知名厂商，并实现重复订单。
此次融资的完成，有望助力思锐智能推进ALD业务升级和离子注入设备业务取得突破，逐步完成硅基及化合物半导体领域全系列机型的布局。（集邦化合物半导体Morty整理）
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