4月22日，据捷佳伟创官微消息，其子公司创微微电子（常州）有限公司（以下简称创微微电子）近日中标半导体SiC整线湿法设备订单并完成合同签署。
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捷佳伟创表示，此次中标，标志着创微微电子6/8英寸槽式及单片全自动湿法刻蚀清洗设备已经覆盖了SiC器件刻蚀清洗全段工艺，具备替代进口设备的能力。
据介绍，创微微电子的6/8英寸全自动湿法刻蚀清洗设备有优异的颗粒去除能力、金属污染控制能力、刻蚀均匀性控制能力，相关性能指标对标国际一线大厂；同时，该设备国产化零部件占比高并已获得多家一线FAB厂量产验证，具有成本优势；此外，该设备拥有自主开发软件，可根据客户工艺需求定制设备排程，实现客户产能最大化。
官网资料显示，创微微电子成立于2020年9月，专注于集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产、销售和服务。其主要产品有4到12英寸批式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备，应用范围涵盖了Micro LED、第三代化合物、微机电、后端封装及集成电路IDM和代工大厂所需的湿法工艺需求，满足近90%湿法工艺步骤，包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、氮化硅刻蚀、炉管前清洗等。
据悉，2022年7月，由创微微电子研发生产的8英寸Cassette-less清洗设备交付至积塔半导体并开始验证阶段，运行情况良好。与此同时，创微微电子成功中标积塔半导体后续10余台清洗设备订单，制程涵盖8英寸至12英寸。
目前，创微微电子已推出4-8英寸全自动Cassette type清洗设备、8英寸全自动Cassette-less清洗设备及4-8腔Single tool清洗设备，成功导入青岛芯恩、成都德州仪器、积塔半导体等国内头部芯片企业并获得重复性订单。
值得一提的是，去年12月，苏州市、无锡市、常州市工信局共同发布2023年苏锡常首台（套）重大装备拟认定公示名单，创微微电子的单晶圆刻蚀清洗设备成功通过公示认定，实现首台套零突破。（集邦化合物半导体Zac整理）
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