2024年1月18日，纳设智能在先进材料制造装备领域迈出了重要一步——自主研发的首台原子层沉积设备已经完成了所有生产和测试流程，顺利出货！
source：纳设智能
原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）是一种薄膜沉积技术，可归于化学气相沉积大类。相对于一般化学气相沉积，其具有独特的表面自限制化学效应，因而可以逐个原子层生长各种化合物或单质薄膜材料，实现更精确的厚度控制。该技术制备的薄膜具有良好的的厚度均匀性，优异的一致性，突出的三维保型性，可用于各类衬底材料的薄膜沉积。
纳设智能利用自身在半导体外延设备、化学气相沉积技术等方面积累的经验及软硬件基础，推出了规格更严、性能更优的ALD设备。
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纳设智能的ALD设备可对玻璃、硅片等衬底材料进行超薄氧化物、氮化物等材料的镀膜，可以制备出均匀性好、保形性优、致密性佳的薄膜材料，可应用于对超薄薄膜（1nm~50nm）有需求的各个领域。
来源：纳设智能
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