近期，广纳四维、烁科晶体、国纳智造达成战略合作，聚焦碳化硅刻蚀衍射光波导的研发与量产，旨在推动AR眼镜核心光学器件的国产化，加速消费级AR产品普及。
source：广纳院
本次合作的核心目标是围绕碳化硅基底刻蚀制备衍射光波导镜片这一关键技术展开深度协同创新，并加速其量产落地。此举旨在提升AR眼镜产业链关键环节的国产化水平，为消费级AR产品的普及注入强劲动力。
在AR眼镜迈向大众消费市场的关键时期，光波导作为核心光学组件，其性能和量产能力直接影响着产品的轻薄度、显示效果以及成本竞争力。半绝缘型碳化硅（SiC）凭借其卓越的物理化学特性，正引领AR光波导技术革新，有望突破现有瓶颈。
本次战略合作充分整合了碳化硅产业链的优势环节。烁科晶体将提供高质量的碳化硅原材料，为碳化硅刻蚀光波导的量产奠定坚实的物质基础。广纳四维则凭借其成熟的衍射光波导光学设计、先进的刻蚀工艺技术和丰富的量产经验，确保产品的性能和市场竞争力。同时，依托国纳智造的国家级纳米技术多领域产业创新平台，将为碳化硅刻蚀光波导的规模化制造提供全面的纳米技术支持和产业协同服务。
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碳化硅材料因其独特的优势，被认为是衍射光波导实现大规模量产的关键突破口。相较于传统的玻璃基底，碳化硅更高（2.6以上）的折射率能够显著提升光波导的衍射效率和视场角，从而增强AR显示的亮度与对比度，并有望实现单片全彩显示，有效抑制彩虹纹效应，提升在户外强光环境下的显示可见性。
此外，碳化硅优异的超高热导率（490W/m·K）是传统玻璃的三倍，能够快速散发高功率Micro-LED光引擎产生的热量，避免因热膨胀导致的光栅结构变形，保障设备的长期稳定运行。
三方在本次合作中分工明确，优势互补。
广纳四维依托自主研发的波导设计软件以及DUV光刻+刻蚀工艺，主导碳化硅刻蚀光波导设计与工艺优化，其超衍射极限结构设计可以精确制备复杂多元纳米光栅结构，使得碳化硅刻蚀光波导实现单片全彩、极致轻薄以及0彩虹纹效应，为用户带来更好优质的视觉体验。
山西烁科晶体作为高品质碳化硅基底等原材料的供应商，在国内率先实现碳化硅材料产业链供应链自主可控，成功突破4、6、8英寸高纯半绝缘碳化硅单晶衬底技术攻关。其12英寸高纯半绝缘碳化硅衬底将发挥光学性能优势，为碳化硅刻蚀光波导的量产制造提供坚实的物质基础。
国纳智造作为国家级产业技术创新平台，凭借其在纳米技术领域深厚的研发积累与产业协同优势，为碳化硅刻蚀光波导的研发以及产业资源的整合提供关键支持，进行多要素赋能。通过突破纳米级精密加工与超表面处理等工艺瓶颈，并结合材料性能优化创新，系统性解决碳化硅刻蚀光波导制备的技术难点。同时，依托国家级平台优势，推动光波导器件产业链协同创新与价值升级。
本次签约合作不仅是技术的融合，更是AR产业链条的深度重构。广纳四维、烁科晶体和国纳智造产业链之间的深度合作与协同，将加速技术转化，有望令碳化硅AR眼镜在轻量化、高清显示与成本控制等多方面实现质的飞跃，加速开启消费级AR的“千元时代”。（集邦化合物半导体整理）