天岳先进投资3亿元提升8英寸SiC衬底制备水平

作者 | 发布日期 2024 年 07 月 09 日 18:00 | 分类 企业

7月8日晚间,天岳先进发布公告称,其拟以简易程序向特定对象发行股票,募集资金总额不超过3亿元(含本数),扣除相关发行费用后的募集资金净额将用于投资8英寸车规级SiC衬底制备技术提升项目。

source:天岳先进

定增预案显示,本次项目主要研发方向包括SiC生长热场仿真、SiC单晶应力控制、SiC单晶微缺陷控制、导电型SiC电阻率控制等。

公告显示,天岳先进本次募资的3亿元主要投向建筑工程及安装工程费用及设备购置费。项目建设周期为24个月,包括厂房净化间装修改造、设备采购安装、新技术和工艺试验等三个阶段。

据悉,由6英寸向8英寸升级,是SiC衬底重要的降本路径之一。天岳先进表示,根据测算,单片8英寸SiC衬底的芯片产出量大约是6英寸的2倍,4英寸的4倍,并可部分使用硅基功率芯片产线装备,可大幅降低成本、提高效率。以32mm2面积的裸片(芯片)为例,8英寸SiC衬底上的裸片数量相比6英寸增加近90%,同时边缘裸片数量占比从14%降低至7%,8英寸衬底利用率相比6英寸提升了7%。

近年来,天岳先进持续发力8英寸SiC衬底。2022年,天岳先进通过自主扩径实现了高品质8英寸SiC衬底的制备。随着国际市场对8英寸SiC衬底需求持续增加,其在2023年已经实现8英寸SiC衬底的批量销售。

与此同时,天岳先进不断进行8英寸产品的技术创新,推进包括导电型SiC用粉料高效合成、高质量导电型SiC晶体生长、高效SiC抛光、8英寸宽禁带SiC半导体单晶生长及衬底加工关键技术等研发项目。天岳先进目前以PVT法大规模批量化制备8英寸衬底,是国际上较少掌握了液相法制备技术的企业之一。

项目方面,据上海临港管委会官网信息显示,天岳先进的“碳化硅半导体材料二期(一阶段)项目”的环评信息已于近日公示。

项目概况显示,天岳先进通过利用现有厂区预留区域增加生产设备开展8英寸SiC晶片生产线建设,配套新增公辅设施和环保设施。为满足产品质量需求,将对现有已批项目部分工艺、设备进行改造。(集邦化合物半导体Zac整理)

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