解决“进口”依赖,突破sic晶体长厚的关键材料是什么?

作者 | 发布日期 2022 年 12 月 12 日 17:27 | 分类 碳化硅SiC

“一次传质”工艺是采用一次传质的新热场,传质效率提高且基本恒定,降低再结晶影响(避免二次传质),有效降低了微管或其它关联晶体缺陷。平衡气相组分,隔断微量杂质,调节局部温度,减少碳包裹等物理性颗粒,在满足晶体可用的前提下,晶体厚度大幅增加,是解决晶体长厚的核心技术之一。

恒普科技在2021年,推出的“一次传质”的新工艺,虽然效果突出,但采用筒形多孔石墨用料多,且大孔隙率的多孔石墨需要依赖进口,急剧增加了晶体生长的成本,大大阻碍了”一次传质“新工艺的推广,使sic晶体生长技术无法与国际同步。

为了推动晶体 “长快、长厚,长大”,如何解决多孔石墨的瓶颈?是行业的迫切需求,多孔石墨的孔隙率、孔隙大小、空隙分布、强度、最薄可加工尺寸、蚀刻特性等技术参数都极具挑战,与工艺匹配更是难点。

恒普科技突破性的解决了多孔石墨的技术,加速推动“一次传质”新工艺的使用,使行业能成本可循环、快速、灵活的与国际技术同步发展,解决关键材料“进口”依赖,并达到国际领先水平。

孔隙率最高可达65%(国际领先)

空隙分布均匀;

批次稳定性高;

强度高,加工性可以达到≤1mm超薄壁圆筒形状 (国际领先)。

来源:恒普科技

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